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PLASMA EHNANCEMENT OF METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND PROPERTIES OF ER2 O3 NANOSTRUCTURED THIN FILMS

Data di pubblicazione: 1 Gen 2007

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RivistaFonte dati: ARCHIVIO
Editore
American Institute of Physics
Fonte
APPLIED PHYSICS LETTERS
ID archivio
75ef192f04342a72955aa68797f44563
Riferimenti
Volume: 91 Issue: 6 Pages: 061923
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