Vai al contenuto
+39 095 59 68 211
Istituto di Microelettronica e Microsistemi
Facebook-f
Instagram
Linkedin-in
Youtube
IMM
Chi siamo
Sede Principale
Sedi secondarie
Agrate Brianza
Catania Università
Lecce
Messina
Roma
SETTORI DI RICERCA
Micro e nanoelettronica
Materiali e dispositivi funzionali
Fotonica
TECNOLOGIE E INFRASTRUTTURE
Sintesi e micro-nanofabbricazione
Caratterizzazione
Modellazione e simulazione
PROGETTI
PUBBLICAZIONI
PEOPLE
LAVORA CON NOI
Menu
IMM
Chi siamo
Sede Principale
Sedi secondarie
Agrate Brianza
Catania Università
Lecce
Messina
Roma
SETTORI DI RICERCA
Micro e nanoelettronica
Materiali e dispositivi funzionali
Fotonica
TECNOLOGIE E INFRASTRUTTURE
Sintesi e micro-nanofabbricazione
Caratterizzazione
Modellazione e simulazione
PROGETTI
PUBBLICAZIONI
PEOPLE
LAVORA CON NOI
NEWS
PUBBLICAZIONI
Home
»
Pubblicazioni
»
Large area growth of single phase TMT nanosheets through simulation guided AP-CVD tellurization
Large area growth of single phase TMT nanosheets through simulation guided AP-CVD tellurization
Data di pubblicazione: 7 Dic 2022
← Torna alle pubblicazioni
Rivista
Fonte dati: ARCHIVIO
Autori:
Christian Martella
,
Alessio Lamperti
,
Alessandro Molle
Fonte
MRS
ID archivio
88e5649f2bb869d89aea3db0eb797da9
Riferimenti
Volume: 9
Apri pubblicazione