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As Depth Profiling in Si Ultrashallow Junctions: Comparison of Three Different Experimental Determinations.
As Depth Profiling in Si Ultrashallow Junctions: Comparison of Three Different Experimental Determinations.
Data di pubblicazione: 10 Lug 2009
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Rivista
Fonte dati: OPENALEX
Tipo OpenAlex: conference-abstract
Open Access
Autori:
Andrea Parisini
,
Vittorio Morandi
, Jaap A. van den Berg, Michael A. Reading, D. Giubertoni, Paul T. Bailey, T.C.Q. Noakes
Abstract not Available.
Fonte
ECS Meeting Abstracts
Volume
MA2009-02
Fascicolo
22
Pagine
2007
Citazioni
1
ID archivio
45dd493f25d6c046353ffa9318af6dda
Riferimenti
Issue: 22 Pages: 2007
Apri pubblicazione
Open Access