多晶硅薄膜晶体管中的高场效应
Data di pubblicazione: 1 Gen 2000
RivistaFonte dati: ARCHIVIO
由于模拟电路和数字电路的性能强烈地依靠晶体管的输出电阻, 所以这些电路的精确模拟要求准确模拟出饱和状态下的输出特性. 然而, 已经在薄膜晶体管中观察到逐次逼近的偏差, 甚至在低于饱和泄漏电压以下. 本文研究了非欧姆传导机制对输出特性的影响, 通过一个用于电路模拟器的简单物理模型估算了过电流. 该模型然后用于研究多晶硅薄膜晶体管中的高场效应.
Data di pubblicazione: 1 Gen 2000
由于模拟电路和数字电路的性能强烈地依靠晶体管的输出电阻, 所以这些电路的精确模拟要求准确模拟出饱和状态下的输出特性. 然而, 已经在薄膜晶体管中观察到逐次逼近的偏差, 甚至在低于饱和泄漏电压以下. 本文研究了非欧姆传导机制对输出特性的影响, 通过一个用于电路模拟器的简单物理模型估算了过电流. 该模型然后用于研究多晶硅薄膜晶体管中的高场效应.