B implanted at room temperature in crystalline Si: defect configuration and thermal evolution detected by ion beam lattice location analyses and simulation

Data di pubblicazione: 1 Gen 2005

ConvegnoFonte dati: ARCHIVIO

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Editore
IBA
Fonte
17th International Conference on Ion Beam Analyses 2005
ID archivio
8873bd5dda7fbff83e45a421c2114819
Riferimenti
Pages: xxx-xxx