L’utilizzo di tecnologie che si basano su sistemi auto organizzanti, come ad esempio i copolimeri a blocchi, per ottenere sistemi nanostrutturati con un alto grado di ordine, sta prendendo sempre più piede nell’industria microelettronica. Queste tecnologie, infatti, permettono di generare nanostrutture ordinate in maniera semplice e versatile e soprattutto possono essere implementate facilmente nella tradizionale litografia ottica. Il fattore principale di questa tecnologia è l’orientazione dei microdomini rispetto al substrato. La diversa affinità dei due blocchi del copolimero rispetto al substrato o all’aria determina l’orientazione perpendicolare o parallela rispetto al substrato dei microdomini cilindrici o lamellari. La morfologia perpendicolare è indispensabile per applicazioni nanolitografiche [1]. Parametro chiave di questo processo è quindi il controllo dell’energia superficiale del substrato. In letteratura sono riportati svariati metodi per modificare l’energia delle superfici, tra cui la tecnica del “grafting to” che consiste nell’aggraffare sulla superficie del substrato un copolimero statistico con composizione nota. Solitamente il copolimero statistico è costituito dagli stessi monomeri con cui è realizzato il copolimero a blocchi. Questo metodo è stato applicato per la prima volta con copolimeri a blocchi e statistici OH-terminati costituiti da stirene e metilmetacrilato. Il copolimero statistico funzionalizzato all’estremità con un gruppo idrossilico è stato preparato tramite polimerizzazione radicalica vivente (NMP) utilizzando come controllore il TEMPO [2]. La neutralizzazione del substrato è stata ottenuta per via termica (stufa da vuoto a 190 C per 60 ore) aggraffando …